ASML 1nm光刻机完成:摩尔定律尚未终结

作者:Yu 来源:原创 2022-05-17

  摩尔定律的终点是什么?随着5nm光刻的量产和3nm技术的突破,摩尔定律的终结变得越来越难以捉摸。可以肯定的是,随着工艺的进一步改进,成本将呈指数增长。

ASML 1nm光刻机完成:摩尔定律尚未终结

  据外媒报道,欧洲微电子研究中心IMEC首席执行官兼总裁Luc Van den hove在最近的一次在线活动上表示,与ASML的合作在更先进的光刻技术方面取得了进展。

  日前,与ASML合作开发光刻技术的比利时半导体研究机构IMEC宣布了微尺度3nm及以下工艺的技术细节。至少目前,ASML已经对3nm、2nm、1.5nm、1nm甚至Sub 1nm有了清晰的路线图,。ASML的1nm光刻机已基本完成设计。

  IMEC首席执行官兼总裁Luc Van den hove发表了第一次主题演讲,概述了该公司的研究,并强调了通过与ASML的密切合作,下一代高分辨率EUV光刻技术的商业化。IMEC强调将继续缩小至1nm及以下的过程。

  包括日本在内的许多半导体公司相继退出了工艺小型化,他们声称摩尔定律已经走到了尽头,或者该定律成本太高,且无利可图。虽然日本的许多光刻工具制造商已经退出了EUV光刻技术的开发阶段,但半导体研究机构IMEC和ASML一直在合作开发对超细尺度至关重要的EUV光刻技术。

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